Məhsullar

View as

SiC Proses Borusu

VeTek Semiconductor yarımkeçiricilərin istehsalı üçün yüksək performanslı SiC Proses Boruları təmin edir. SiC Proses Borularımız oksidləşmə, diffuziya proseslərində üstündür. Üstün keyfiyyət və sənətkarlıqla, bu borular səmərəli yarımkeçirici emal üçün yüksək temperaturda sabitlik və istilik keçiriciliyi təklif edir. Biz rəqabətli qiymət təklif edirik və Çində uzunmüddətli tərəfdaşınız olmağa çalışırıq.

Daha çox oxu Sorğu göndərin

SiC Cantilever Paddle

VeTek Semiconductor-un SiC Cantilever Paddle çox yüksək performanslı məhsuldur. SiC Cantilever Paddle adətən silikon vaflilərin idarə edilməsi və dəstəklənməsi, kimyəvi buxarın çökməsi (CVD) və yarımkeçirici istehsal proseslərində digər emal prosesləri üçün istilik müalicəsi sobalarında istifadə olunur. SiC materialının yüksək temperatur sabitliyi və yüksək istilik keçiriciliyi yarımkeçiricilərin emal prosesində yüksək səmərəliliyi və etibarlılığı təmin edir. Biz rəqabətədavamlı qiymətlərlə yüksək keyfiyyətli məhsullar təqdim etməyə sadiqik və Çində uzunmüddətli tərəfdaşınız olmağı səbirsizliklə gözləyirik.

Daha çox oxu Sorğu göndərin

SiC Örtük Suseptoru

Vetek Semiconductor CVD SiC örtüyünün və CVD TaC örtüyünün tədqiqatı və inkişafı və sənayeləşdirilməsinə diqqət yetirir. Nümunə olaraq SiC örtüyünün həssaslığını götürsək, məhsul yüksək dəqiqlik, sıx CVD SIC örtüyü, yüksək temperatur müqaviməti və güclü korroziyaya davamlılıq ilə yüksək səviyyədə işlənir. Bizimlə bağlı sorğu xoşdur.

Daha çox oxu Sorğu göndərin

SiC Crystal Growth üçün CVD SiC Bloku

VeTek Semiconductor CVD-SiC toplu mənbələrinin, CVD SiC örtüklərinin və CVD TaC örtüklərinin tədqiqatı və inkişafı və sənayeləşdirilməsinə diqqət yetirir. Nümunə olaraq SiC Crystal Growth üçün CVD SiC blokunu götürsək, məhsulun emal texnologiyası qabaqcıl, böyümə sürəti sürətli, yüksək temperatur müqaviməti və korroziyaya davamlıdır. Sorğuya xoş gəldiniz.

Daha çox oxu Sorğu göndərin

SiC Crystal Growth Yeni Texnologiya

Vetek Semiconductor şirkətinin kimyəvi buxar çökməsi (CVD) nəticəsində əmələ gələn ultra yüksək təmizlikli silisium karbidindən (SiC) fiziki buxar nəqli (PVT) ilə silisium karbid kristallarının yetişdirilməsi üçün mənbə materialı kimi istifadə edilə bilər. SiC Crystal Growth New Technology-də mənbə materialı potaya yüklənir və toxum kristalına sublimasiya edilir. Materialı SiC kristallarının böyüməsi üçün mənbə kimi təkrar emal etmək üçün atılmış CVD-SiC bloklarından istifadə edin. Bizimlə tərəfdaşlıq qurmağa xoş gəlmisiniz.

Daha çox oxu Sorğu göndərin

CVD SiC Duş Başlığı

VeTek Semiconductor, Çində aparıcı CVD SiC Duş Başlığı istehsalçısı və yenilikçidir. Biz uzun illərdir SiC materialı üzrə ixtisaslaşmışıq. CVD SiC Duş Başlığı əla termokimyəvi dayanıqlığı, yüksək mexaniki gücü və davamlılığına görə fokuslanma halqası materialı kimi seçilir. plazma eroziyası. Çində uzunmüddətli tərəfdaşınız olmağı səbirsizliklə gözləyirik.

Daha çox oxu Sorğu göndərin

<...3 4 5 6 7...10 >