LPE Reaktor Fabriki üçün 8 Düymlük Yarım Ay Hissəsi

Tantal karbid örtüklü planet fırlanma diski istehsalçısı

LPE PE2061S Təchizatçı üçün SiC Örtülü Barrel Suseptor

Tantal karbid örtüyü

VeTek yarımkeçirici yarımkeçirici sənayesi üçün Tantal Karbid Kaplama materiallarının aparıcı istehsalçısıdır. Əsas məhsul təkliflərimizə CVD tantal karbid örtük hissələri, SiC kristallarının böyüməsi üçün sinterlənmiş TaC örtük hissələri və ya yarımkeçirici epitaksiya prosesi daxildir. ISO9001-dən keçdi, VeTek Semiconductor keyfiyyətə yaxşı nəzarət edir. VeTek Semiconductor davamlı tədqiqat və təkrarlanan texnologiyaların inkişafı vasitəsilə Tantal Karbid Kaplama sənayesində yenilikçi olmağa həsr edilmişdir.

Əsas məhsullar Tantal Karbid örtüklü defektor halqası, TaC ilə örtülmüş təxribat halqası, TaC örtülmüş yarımay hissələri, Tantal Karbidlə örtülmüş planet fırlanma diski (Aixtron G10), TaC örtüklü potadır; TaC örtüklü üzüklər; TaC örtüklü məsaməli qrafit; Tantal Karbid Kaplama Qrafit Susseptor; TaC örtüklü bələdçi halqası; TaC tantal karbid örtüklü lövhə; TaC ilə örtülmüş vafli suseptor; TaC örtük halqası; TaC Coating Graphite Cover; TaC Coated Chunk və s., təmizlik 5ppm-dən aşağıdır, müştəri tələblərinə cavab verə bilər.

TaC örtüklü qrafit yüksək təmizlikli qrafit substratının səthinin xüsusi Kimyəvi Buxar Çöküntüsü (CVD) prosesi ilə incə tantal karbid təbəqəsi ilə örtülməsi ilə yaradılmışdır. Üstünlük aşağıdakı şəkildə göstərilmişdir:

Performance Advantages of Tantalum Carbide Coating

Tantal karbid (TaC) örtüyü 3880°C-ə qədər yüksək ərimə nöqtəsi, əla mexaniki gücü, sərtliyi və termal şoklara qarşı müqaviməti sayəsində diqqəti cəlb edir və onu daha yüksək temperatur tələbləri ilə mürəkkəb yarımkeçirici epitaksiya proseslərinə cəlbedici alternativ edir. Aixtron MOCVD sistemi və LPE SiC epitaksi prosesi kimi. O, həmçinin PVT metodu SiC kristal artım prosesində geniş tətbiqinə malikdir.

Əsas Xüsusiyyətlər:

Temperatur sabitliyi

Ultra yüksək təmizlik

H2, NH3, SiH4, Si-yə qarşı müqavimət

Termal ehtiyata qarşı müqavimət

Qrafitə güclü yapışma

Konformal örtük örtüyü

750 mm diametrə qədər ölçü (Çində yeganə istehsalçı bu ölçüyə çatır)

Tətbiqlər:

Gofret daşıyıcısı

İnduktiv isitmə sensoru

Rezistiv qızdırıcı element

Peyk diski

Duş başlığı

Bələdçi üzük

LED Epi qəbuledicisi

Enjeksiyon başlığı

Maskalama üzük

İstilik qoruyucusu

Mikroskopik kəsikdə tantal karbid (TaC) örtüyü:

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section

VeTek Yarımkeçirici Tantal Karbid Kaplamasının Parametri:

TaC örtüyünün fiziki xassələri
Sıxlıq	14,3 (q/sm³)
Xüsusi emissiya	0.3
Termal genişlənmə əmsalı	6.3 10-6/K
Sərtlik (HK)	2000 HK
Müqavimət	1×10-5 Ohm*sm
İstilik sabitliyi	<2500 ℃
Qrafit ölçüsü dəyişir	-10~-20um
Kaplama qalınlığı	≥20um tipik dəyər (35um±10um)

TaC örtüyü EDX məlumatları

TaC coating EDX data

TaC örtük kristal strukturu məlumatları

Element	Atom faizi
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Orta
C K	52.10	57.41	52.37	53.96
Ta M	47.90	42.59	47.63	46.04

TaC Kaplama Çubuğu TaC Kaplama Planet Diski TaC örtüklü lövhə TaC Kaplama Fırlanma Plitəsi TaC örtüklü həssas CVD TaC örtük örtüyü CVD TaC örtük halqası TaC örtük lövhəsi

Silikon Karbid Kaplama

VeTek Semiconductor şirkəti ultra təmiz Silikon Karbid Kaplama məhsullarının istehsalında ixtisaslaşıb, bu örtüklər təmizlənmiş qrafit, keramika və odadavamlı metal komponentlərə tətbiq olunmaq üçün nəzərdə tutulub.

Yüksək təmizlikli örtüklərimiz əsasən yarımkeçiricilər və elektronika sənayesində istifadə üçün nəzərdə tutulub. Onlar vafli daşıyıcıları, qəbulediciləri və qızdırıcı elementləri MOCVD və EPI kimi proseslərdə rast gəlinən aşındırıcı və reaktiv mühitlərdən qoruyan qoruyucu təbəqə rolunu oynayır. Bu proseslər vafli emalı və cihaz istehsalının ayrılmaz hissəsidir. Bundan əlavə, örtüklərimiz yüksək vakuum, reaktiv və oksigen mühitlərinin rast gəlindiyi vakuum sobalarında və nümunənin qızdırılmasında tətbiqlər üçün çox uyğundur.

VeTek Semiconductor-da biz qabaqcıl maşın sexi imkanlarımızla hərtərəfli həll təklif edirik. Bu, bizə qrafit, keramika və ya odadavamlı metallardan istifadə edərək əsas komponentləri istehsal etməyə və SiC və ya TaC keramika örtüklərini evdə tətbiq etməyə imkan verir. Biz, həmçinin, müxtəlif ehtiyacları ödəmək üçün çevikliyi təmin edərək, müştəri tərəfindən təchiz edilmiş hissələr üçün örtük xidmətləri təqdim edirik.

Silikon Karbid Kaplama məhsullarımız Si epitaxy, SiC epitaxy, MOCVD sistemi, RTP/RTA prosesində, aşındırma prosesində, ICP/PSS aşındırma prosesində, mavi və yaşıl LED, UV LED və dərin UV daxil olmaqla müxtəlif LED növləri prosesində geniş istifadə olunur. LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI və s. avadanlıqlara uyğunlaşdırılmış LED və s.

Edə biləcəyimiz reaktor hissələri:

Silikon Karbid Kaplama bir sıra unikal üstünlüklərə malikdir:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek Yarımkeçirici Silikon Karbid Kaplama Parametri:

CVD SiC örtüyünün əsas fiziki xassələri
Əmlak	Tipik Dəyər
Kristal strukturu	FCC β faza polikristal, əsasən (111) yönümlü
Sıxlıq	3,21 q/sm³
Sərtlik	2500 Vickers sərtliyi (500 q yük)
Taxıl Ölçüsü	2 ~ 10μm
Kimyəvi Saflıq	99.99995%
İstilik tutumu	640 J·kg-1·K-1
Sublimasiya temperaturu	2700 ℃
Bükülmə Gücü	415 MPa RT 4 nöqtəli
Gəncin Modulu	430 Gpa 4pt əyilmə, 1300 ℃
İstilik keçiriciliyi	300W·m-1·K-1
Termal Genişlənmə (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

Seçilmiş Məhsullar

Bizim haqqımızda

2016-cı ildə əsası qoyulmuş VeTek yarımkeçirici Technology Co., LTD yarımkeçirici sənayesi üçün qabaqcıl örtük materiallarının aparıcı təchizatçısıdır. Təsisçimiz, Çin Elmlər Akademiyasının Materiallar İnstitutunun keçmiş eksperti, sənaye üçün qabaqcıl həllərin işlənib hazırlanmasına diqqət yetirərək şirkəti qurdu.

Əsas məhsul təkliflərimizə daxildirCVD silisium karbid (SiC) örtükləri, tantal karbid (TaC) örtükləri, toplu SiC, SiC tozları və yüksək təmizlikli SiC materialları. Əsas məhsullar SiC örtüklü qrafit həssaslığı, əvvəlcədən qızdırılan üzüklər, TaC örtülmüş təxribat üzükləri, yarım ay hissələri və s., təmizlik 5ppm-dən aşağıdır, müştəri tələblərinə cavab verə bilər.

Daha çox oxu