SiC örtüklü ALD həssası

VeTek yarımkeçiriciSiC örtüklü ALD həssasıatom təbəqəsinin çökməsində mühüm rol oynayır (ALD) prosesi. Onun dəqiq temperatur nəzarəti, vahid qaz paylanması, yüksək kimyəvi müqavimət və əla istilik keçiriciliyi filmin çökmə prosesinin vahidliyini və yüksək keyfiyyətini təmin edir. Daha çox bilmək istəyirsinizsə, dərhal bizimlə məsləhətləşə bilərsiniz və biz sizə vaxtında cavab verəcəyik!

Dəqiq temperatur nəzarəti:

SiC örtüklü ALD sensoru adətən yüksək dəqiqlikli temperatur nəzarət sisteminə malikdir. O, çöküntü prosesi boyunca vahid temperatur mühitini saxlamağa qadirdir ki, bu da filmin vahidliyini və keyfiyyətini təmin etmək üçün çox vacibdir.

Qazın vahid paylanması:

SiC örtüklü ALD qəbuledicisinin optimallaşdırılmış dizaynı ALD çökmə prosesi zamanı qazın vahid paylanmasını təmin edir. Onun strukturu adətən bütün vafli səthi boyunca reaktiv qazların vahid əhatə dairəsini təşviq etmək üçün çoxlu fırlanan və ya hərəkət edən hissələrdən ibarətdir.

Yüksək kimyəvi müqavimət:

ALD prosesi müxtəlif kimyəvi qazları əhatə etdiyinə görə, SiC örtüklü ALD həssası kimyəvi qazların aşınmasına və yüksək temperaturlu mühitlərin təsirinə müqavimət göstərmək üçün adətən korroziyaya davamlı materiallardan (məsələn, platin, keramika və ya yüksək təmizlikli kvars) hazırlanır.

Əla istilik keçiriciliyi:

İstiliyi effektiv şəkildə aparmaq və sabit çökmə temperaturunu saxlamaq üçün SiC örtüklü ALD həssasları adətən yüksək istilik keçiriciliyi olan materiallardan istifadə edirlər. Bu, yerli həddindən artıq istiləşmə və qeyri-bərabər çökmənin qarşısını almağa kömək edir.

CVD SiC örtüyünün əsas fiziki xassələri:

İstehsal sexləri:

Yarımkeçirici çip epitaksi sənayesi zəncirinin icmalı：