Monokristal silisium üçün pota

Monokristal Silikon üçün Vetek Yarımkeçirici Pota yarımkeçirici cihaz istehsalının təməl daşı olan tək kristal artımına nail olmaq üçün vacibdir. Bu tigelər yarımkeçiricilər sənayesinin ciddi standartlarına cavab vermək üçün diqqətlə hazırlanmışdır və bütün tətbiqlərdə ən yüksək performans və səmərəliliyi təmin edir. Vetek Semiconductor-da biz keyfiyyəti qənaətcilliklə birləşdirən kristal böyüməsi üçün yüksək performanslı tigelərin istehsalına və tədarükünə sadiqik.

Sorğu göndərin

Məhsul təsviri

CZ (Çoxralski) metodunda monokristal toxumu ərimiş polikristal silisiumla təmasda tutaraq tək kristal yetişdirilir. Toxum yavaş-yavaş fırlanarkən tədricən yuxarıya doğru çəkilir. Bu prosesdə xeyli sayda qrafit hissələri istifadə olunur ki, bu da onu silikon yarımkeçirici istehsalında ən yüksək miqdarda qrafit komponentlərindən istifadə edən üsula çevirir.

Aşağıdakı şəkildə CZ metoduna əsaslanan bir silikon monokristal istehsal sobasının sxematik təsviri verilmişdir.

Vetek Yarımkeçiricinin Monokristal Silikon üçün Potası yarımkeçirici kristalların dəqiq formalaşması üçün vacib olan sabit və idarə olunan mühit təmin edir. Onlar elektron cihazlar üçün yüksək keyfiyyətli materialların istehsalı üçün mühüm əhəmiyyət kəsb edən Czochralski prosesi və float-zona üsulları kimi qabaqcıl texnikalardan istifadə edərək monokristal silisium külçələrinin yetişdirilməsində mühüm rol oynayırlar.

Mükəmməl istilik sabitliyi, kimyəvi korroziyaya davamlılıq və minimal istilik genişlənməsi üçün hazırlanmış bu tigelər davamlılıq və möhkəmliyi təmin edir. Onlar struktur bütövlüyünə və ya performansına xələl gətirmədən sərt kimyəvi mühitlərə tab gətirmək üçün nəzərdə tutulmuşdur, beləliklə, potanın xidmət müddətini uzadır və uzun müddət istifadə zamanı ardıcıl performansını saxlayır.

Monokristal silisium üçün Vetek Yarımkeçirici Crucibles-in unikal tərkibi onlara yüksək temperaturda emalın ekstremal şəraitinə tab gətirməyə imkan verir. Bu, yarımkeçiricilərin emalı üçün vacib olan müstəsna istilik sabitliyinə və təmizliyə zəmanət verir. Kompozisiya eyni zamanda səmərəli istilik ötürülməsini asanlaşdırır, vahid kristallaşmanı təşviq edir və silikon əriməsi içərisində termal qradientləri minimuma endirir.

SiC Kaplama Susseptorumuzun üstünlükləri:

Əsas Materialın Mühafizəsi: CVD SiC örtüyü epitaksial proses zamanı qoruyucu təbəqə rolunu oynayır, əsas materialı eroziyadan və xarici mühitin yaratdığı zədələrdən effektiv şəkildə qoruyur. Bu qoruyucu tədbir avadanlığın xidmət müddətini xeyli uzadır.

Əla istilik keçiriciliyi: CVD SiC örtükümüz əla istilik keçiriciliyinə malikdir, istiliyi əsas materialdan örtük səthinə səmərəli şəkildə ötürür. Bu, epitaksiya zamanı istilik idarəetmə səmərəliliyini artırır, avadanlıq üçün optimal işləmə temperaturunu təmin edir.

Təkmilləşdirilmiş Film Keyfiyyəti: CVD SiC örtüyü düz və vahid səth təmin edərək, filmin böyüməsi üçün ideal zəmin yaradır. O, şəbəkənin uyğunsuzluğu nəticəsində yaranan qüsurları azaldır, epitaksial filmin kristallığını və keyfiyyətini artırır və nəticədə onun işini və etibarlılığını artırır.

Epitaksial vafli istehsal ehtiyaclarınız üçün SiC Örtük Susseptorumuzu seçin və gücləndirilmiş qorunma, üstün istilik keçiriciliyi və təkmilləşdirilmiş film keyfiyyətindən faydalanın. Yarımkeçirici sənayesində uğurunuzu təmin etmək üçün VeTek Semiconductor-un innovativ həllərinə etibar edin.