ALD əridilmiş kvars postamenti

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal yarımkeçirici istehsal prosesində əsas rol oynayır.kvars qayığısaxlamaq üçün istifadə olunurgofret. Fused Quartz Pedestal yarımkeçirici cihazların işinə və etibarlılığına birbaşa təsir edən sabit temperaturu saxlamaqla vahid film çökməsinə nail olmağa kömək edir. Bundan əlavə, Kvars Pedestal proses kamerasında istilik və işığın vahid paylanmasını təmin edir və bununla da çökmə prosesinin ümumi keyfiyyətini yaxşılaşdırır.

ALD əridilmiş kvars postament materialının üstünlükləri

Yüksək Temperatur Müqaviməti: Əridilmiş kvars postamentinin yumşalma nöqtəsi təxminən 1730°C-dir və o, 1100°C-dən 1250°C-dək yüksək temperaturda işləməyə uzun müddət davam edə bilər və 1450°C-ə qədər ekstremal temperatur mühitinə məruz qala bilər. qısa müddətə.

Əla Korroziyaya Müqavimət: əridilmiş kvars hidrofluorik turşudan başqa demək olar ki, bütün turşulara yüksək kimyəvi cəhətdən təsirsizdir. Onun turşu müqaviməti keramikadan 30 dəfə, paslanmayan poladdan isə 150 ​​dəfə yüksəkdir. Ərinmiş kvars yüksək temperaturda kimyəvi cəhətdən bənzərsizdir və onu mürəkkəb kimyəvi proseslər üçün ideal material edir.

İstilik sabitliyi: Ərimiş Kvars Altlıq materialının əsas xüsusiyyəti onun son dərəcə aşağı istilik genişlənmə əmsalıdır. Bu o deməkdir ki, o, krekinq olmadan dramatik temperatur dalğalanmalarını asanlıqla idarə edə bilər. Məsələn, əridilmiş silisium kvars tez bir zamanda 1100°C-yə qədər qızdırıla bilər və zədələnmədən birbaşa soyuq suya batırıla bilər ki, bu da yüksək gərginlikli istehsal şəraitində mühüm xüsusiyyətdir.

Ciddi istehsal prosesi: Ərinmiş silisium postamentlərinin istehsal prosesi yüksək keyfiyyət standartlarına ciddi şəkildə riayət edir. İstehsal prosesində adətən 10.000 sinif təmiz otaq mühitində tamamlanan isti formalaşdırma və qaynaq proseslərindən istifadə edilir. Daha sonra əridilmiş kvars şüşə postamenti məhsulun saflığını və optimal performansını təmin etmək üçün ultratəmiz su (18 MΩ) ilə hərtərəfli təmizlənir. Yarımkeçirici sənayesinin yüksək standartlarına cavab vermək üçün hər bir hazır məhsul ciddi şəkildə yoxlanılır, təmizlənir və 1000 və ya daha yüksək dərəcəli təmiz otaqda qablaşdırılır.

Yüksək təmizlikdə qeyri-şəffaf silisium kvars materialı

VeTeksemi ALD Fused Kvars Pedestalı istilik və işığı effektiv şəkildə təcrid etmək üçün yüksək təmizlikdə qeyri-şəffaf kvars materialından istifadə edir. Mükəmməl istilik qoruyucu və yüngül qoruyucu xüsusiyyətləri ona texnoloji kamerada temperaturun vahid paylanmasını təmin edərək, nazik materialın vahidliyini və tutarlılığını təmin edir.filmin yerləşdirilməsivafli səthində.

Tətbiq Sahələri

Ərimiş kvars postamentləri əla performansına görə yarımkeçirici sənayenin bir çox sahələrində geniş istifadə olunur. ildəatom təbəqəsinin çökməsi (ALD) prosesi, o, filmin böyüməsinə dəqiq nəzarəti dəstəkləyir və yarımkeçirici cihazların inkişafını təmin edir. ildəaşağı təzyiqli kimyəvi buxar çökmə (LPCVD) prosesi, yüksək təmizlikli kvars Pedestalın istilik dayanıqlığı və işıqdan qorunma qabiliyyəti nazik təbəqələrin vahid çöküntüsünə zəmanət verir və bununla da cihazın işini və məhsuldarlığını artırır.

Bundan əlavə, diffuziya vafli prosesində Fused Quartz Pedestal-in yüksək temperatur müqaviməti və kimyəvi korroziyaya davamlılığı yarımkeçirici materialın dopinq prosesinin etibarlılığını və ardıcıllığını təmin edir. Bu əsas proseslər yarımkeçirici cihazların elektrik göstəricilərini müəyyənləşdirir və yüksək keyfiyyətli Fused Kvars materialları bu proseslərin ən yaxşı nəticələrinin əldə edilməsində əvəzsiz rol oynayır.

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Peststal mağazaları: